Produktidentifiering
|
Punkt |
Specifikation |
|
Produktnamn |
G4 Saltsyra |
|
Produktkategori |
Semiconductor Electronic Wet Chemical |
|
Kemiskt namn |
Saltsyra |
|
Kemisk formel |
HCl |
|
CAS-nr. |
7647-01-0 |
|
Molekylvikt |
36.46 |
|
UN-nummer |
1789 |
|
Kvalitet |
SEMI G4 Ultra-High Purity Electronic Grade |
Produktöversikt
G4 saltsyra är en oorganisk syra med hög -renhet, speciellt renad för tillverkning av halvledarskivor och avancerad mikroelektroniktillverkning. Tillverkad via ultra-rening, låg-föroreningsfiltrering och rena-rumsfyllningsprocesser, den här produkten har ultra-låga spårmetalljoner, anjoniska föroreningar och mikro-partiklar, som helt uppfyller SEMI G4-branschens specifikationer.
Det är en våt kärnkemikalie för halvledarframkantsprocesser-, som effektivt tar bort metalliska föroreningar, jonrester och oxidföroreningar på waferytor. Strikt föroreningskontroll eliminerar mikro-kontaminationsrisker, vilket säkerställer hög avkastning och stabil prestanda för avancerade chiptillverkningsprocesser.
Utseende:Färglös, transparent och klar vätska med lätt stickande lukt
Tekniska specifikationer (SEMI G4 Standard)
|
Testobjekt |
Specifikation |
|
HCl-analys |
36,0 ~ 38,0 vikt% |
|
Utseende |
Färglös och klar transparent vätska |
|
Färg (APHA) |
Mindre än eller lika med 10 |
|
Densitet @ 20 grader |
1,18 ~ 1,19 g/cm³ |
|
Avdunstningsrester |
Mindre än eller lika med 50 ppb |
|
Individuella spårmetaller (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Mindre än eller lika med 10 ppb vardera |
|
Sulfat (SO₄²⁻) |
Mindre än eller lika med 50 ppb |
|
Nitrat (NO₃⁻) |
Mindre än eller lika med 50 ppb |
|
Fri klor (Cl₂) |
Mindre än eller lika med 50 ppb |
|
Fosfat (PO₄³⁻) |
Mindre än eller lika med 30 ppb |
|
Partiklar Större än eller lika med 0,2μm |
Mindre än eller lika med 100 st/ml |
Notera:All testdata baseras på batch-specifik COA (Certificate of Analysis).
Applikationer (Semiconductor Wet Process)
Rengöring av waferytor:Ta bort kvarvarande metalljoner, oorganiska föroreningar och ytoxidskikt på kiselskivor, förbättra waferns renhet för efterföljande etsnings- och avsättningsprocesser.
Halvledarvåtetsning:Används för precisionsmikro-etsning av kisel-baserade material och sammansatta halvledarsubstrat med stabil etsningshastighet och enhetlig bearbetningseffekt.
Förberedelse av processlösning:Formulera blandade rengörings- och etslösningar för RCA-rengöringsprocesser, som matchar avancerade tillverkningskrav för halvledarfront-.
Avancerad förpackning och MEMS-process:Ytbehandling och borttagning av föroreningar för MEMS-enheter, chipförpackningar och mikroelektronisk komponentbearbetning.
Standard för förpackning och fyllning
Förpackningstyp:Rengör-HDPE-förseglad trumma/ren IBC-väska
Gemensam specifikation:25 kg / 30 kg liten trumma, 1000 kg IBC-väska
Fyllningsmiljö:Klass 1000 renrum, noll sekundär kontaminering, strikt kontrollerad partikel- och föroreningsintroduktion
Tätningsstandard:Professionell syra-beständig förseglad förpackning, anti-flyktighet och anti-läckage
Förvaring & hållbarhet
● Förvara i svalt, torrt, ventilerat och dedikerat kemikalielager, förvara tätt försluten, borta från direkt solljus, höga temperaturer och värmekällor.
● Isolera från alkaliska ämnen, oxidanter och organiska kemikalier för att undvika kemisk reaktion och kontaminering.
● Undvik strikt lång-öppen placering för att förhindra flyktig försämring och absorption av föroreningar.
● Hållbarhet: 12 månader under förseglade standardförhållanden
Hantering och säkerhetsåtgärder
● Saltsyra är frätande och flyktig. Operatörer måste bära komplett personlig skyddsutrustning: syrabeständiga-handskar, kemikalieglasögon, korrosionsbeständigt-förkläde och skyddskläder.
● Arbeta i ventilerad miljö; undvik inandning av flyktig gas och direktkontakt med hud och ögon.
● Spädning: tillsätt långsamt syra i vattnet, tillsätt aldrig vatten i koncentrerad saltsyra för att förhindra stänk och skador.
● I händelse av kontakt eller läckage, följ SDS-nödriktlinjerna för snabb rengöring och kassering.
● För fullständig faroklassificering, transportregler och första hjälpen-, se det officiella säkerhetsdatabladet.
Kvalitetssäkring
Varje sats av G4 saltsyra produceras och inspekteras i enlighet med SEMI G4 internationella standarder. Varje försändelse åtföljs av ett officiellt batch-COA. Alla produktions-, renings- och fyllningsprocesser tillämpar strikt rena-rumskontaminationskontroll för att säkerställa stabil och konsekvent produktkvalitet för avancerade-tillämpningar för halvledartillverkning.
Saltsyraspecifikation
|
Produktnamn |
Kvalitet |
Relativ molekylmassa |
Molekylformel |
|
Saltsyra |
Elektroniska kemikalier G4 |
36.46 |
HCl |
|
Inspektera föremål |
Specifikationer |
Inspektera föremål |
Specifikationer |
|
Utseende |
Färglös transparent vattenlösning av väteklorid |
Nickel (Ni), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Analys (HCl), % |
36.0~38.0 |
Cupric (Cu), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Kromaticitet, Hazen-enheter |
Mindre än eller lika med 10 |
Zink (Zn), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Brinnande återstod (sulfatbas), ppm |
Mindre än eller lika med 3 |
Gallium (Ga), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
fritt tillgängligt klor (Cl), ppb |
Mindre än eller lika med 100 |
Germanium (Ge), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Ammonium (NH4), ppb |
Mindre än eller lika med 100 |
Arsenik (As), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Sulfat (SO4), ppb |
Mindre än eller lika med 100 |
Stantium (Sr), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Sulfiter (SO2), ppb |
Mindre än eller lika med 100 |
Zirkonium (Zr), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Fosfat (PO4), ppb |
Mindre än eller lika med 100 |
Niob (Nb), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Litium (Li), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Molybden (Mo), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Berylium (Be), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Silver (Ag), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Bor (B), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Kadmium (Cd), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Natrium (Na), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Tenn (Sn), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Magnesium (Mg), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Barium (Ba), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Aluminium (Al), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Tantal (Ta), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Kalium (K), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Guld (Au), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Kalcium (Ca), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Tallium (Tl), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Titan (Ti), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Bly (Pb), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Vanadin (V), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Vismut (Bi), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Krom (Cr), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Partiklar (Större än eller lika med 0,2μm), st/mL |
Mindre än eller lika med 300 |
|
Mangan (Mn), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Partiklar (Större än eller lika med 0,3μm), st/mL |
Mindre än eller lika med 100 |
|
Järn (Fe), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Partiklar (Större än eller lika med 0,5μm), st/mL |
Mindre än eller lika med 5 |
|
Kobolt (Co), ppt |
Mindre än eller lika med 100 |
Slut på rapporten |
- |
Populära Taggar: elektroniska kemikalier g4 saltsyra, Kina elektroniska kemikalier g4 saltsyra tillverkare, leverantörer, fabrik

