Elektroniska kemikalier G4 saltsyra

Elektroniska kemikalier G4 saltsyra

Dokumentrevision: 01
Utgivningsdatum: 2026-09-02
Tillämplig standard: SEMI G4 Grade (Semiconductor Ultra-High Purity Wet Chemical)

Produktidentifiering

 

Punkt

Specifikation

Produktnamn

G4 Saltsyra

Produktkategori

Semiconductor Electronic Wet Chemical

Kemiskt namn

Saltsyra

Kemisk formel

HCl

CAS-nr.

7647-01-0

Molekylvikt

36.46

UN-nummer

1789

Kvalitet

SEMI G4 Ultra-High Purity Electronic Grade

 

Produktöversikt

 

G4 saltsyra är en oorganisk syra med hög -renhet, speciellt renad för tillverkning av halvledarskivor och avancerad mikroelektroniktillverkning. Tillverkad via ultra-rening, låg-föroreningsfiltrering och rena-rumsfyllningsprocesser, den här produkten har ultra-låga spårmetalljoner, anjoniska föroreningar och mikro-partiklar, som helt uppfyller SEMI G4-branschens specifikationer.


Det är en våt kärnkemikalie för halvledarframkantsprocesser-, som effektivt tar bort metalliska föroreningar, jonrester och oxidföroreningar på waferytor. Strikt föroreningskontroll eliminerar mikro-kontaminationsrisker, vilket säkerställer hög avkastning och stabil prestanda för avancerade chiptillverkningsprocesser.


Utseende:Färglös, transparent och klar vätska med lätt stickande lukt

 

Tekniska specifikationer (SEMI G4 Standard)

 

Testobjekt

Specifikation

HCl-analys

36,0 ~ 38,0 vikt%

Utseende

Färglös och klar transparent vätska

Färg (APHA)

Mindre än eller lika med 10

Densitet @ 20 grader

1,18 ~ 1,19 g/cm³

Avdunstningsrester

Mindre än eller lika med 50 ppb

Individuella spårmetaller (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Mindre än eller lika med 10 ppb vardera

Sulfat (SO₄²⁻)

Mindre än eller lika med 50 ppb

Nitrat (NO₃⁻)

Mindre än eller lika med 50 ppb

Fri klor (Cl₂)

Mindre än eller lika med 50 ppb

Fosfat (PO₄³⁻)

Mindre än eller lika med 30 ppb

Partiklar Större än eller lika med 0,2μm

Mindre än eller lika med 100 st/ml

 

Notera:All testdata baseras på batch-specifik COA (Certificate of Analysis).

 

Applikationer (Semiconductor Wet Process)

 

Rengöring av waferytor:Ta bort kvarvarande metalljoner, oorganiska föroreningar och ytoxidskikt på kiselskivor, förbättra waferns renhet för efterföljande etsnings- och avsättningsprocesser.

Halvledarvåtetsning:Används för precisionsmikro-etsning av kisel-baserade material och sammansatta halvledarsubstrat med stabil etsningshastighet och enhetlig bearbetningseffekt.

Förberedelse av processlösning:Formulera blandade rengörings- och etslösningar för RCA-rengöringsprocesser, som matchar avancerade tillverkningskrav för halvledarfront-.

Avancerad förpackning och MEMS-process:Ytbehandling och borttagning av föroreningar för MEMS-enheter, chipförpackningar och mikroelektronisk komponentbearbetning.

 

Standard för förpackning och fyllning

 

Förpackningstyp:Rengör-HDPE-förseglad trumma/ren IBC-väska

Gemensam specifikation:25 kg / 30 kg liten trumma, 1000 kg IBC-väska

Fyllningsmiljö:Klass 1000 renrum, noll sekundär kontaminering, strikt kontrollerad partikel- och föroreningsintroduktion

Tätningsstandard:Professionell syra-beständig förseglad förpackning, anti-flyktighet och anti-läckage

 

Förvaring & hållbarhet

 

● Förvara i svalt, torrt, ventilerat och dedikerat kemikalielager, förvara tätt försluten, borta från direkt solljus, höga temperaturer och värmekällor.

● Isolera från alkaliska ämnen, oxidanter och organiska kemikalier för att undvika kemisk reaktion och kontaminering.

● Undvik strikt lång-öppen placering för att förhindra flyktig försämring och absorption av föroreningar.

● Hållbarhet: 12 månader under förseglade standardförhållanden

 

Hantering och säkerhetsåtgärder

 

● Saltsyra är frätande och flyktig. Operatörer måste bära komplett personlig skyddsutrustning: syrabeständiga-handskar, kemikalieglasögon, korrosionsbeständigt-förkläde och skyddskläder.

● Arbeta i ventilerad miljö; undvik inandning av flyktig gas och direktkontakt med hud och ögon.

● Spädning: tillsätt långsamt syra i vattnet, tillsätt aldrig vatten i koncentrerad saltsyra för att förhindra stänk och skador.

● I händelse av kontakt eller läckage, följ SDS-nödriktlinjerna för snabb rengöring och kassering.

● För fullständig faroklassificering, transportregler och första hjälpen-, se det officiella säkerhetsdatabladet.

 

Kvalitetssäkring

 

Varje sats av G4 saltsyra produceras och inspekteras i enlighet med SEMI G4 internationella standarder. Varje försändelse åtföljs av ett officiellt batch-COA. Alla produktions-, renings- och fyllningsprocesser tillämpar strikt rena-rumskontaminationskontroll för att säkerställa stabil och konsekvent produktkvalitet för avancerade-tillämpningar för halvledartillverkning.

 

Saltsyraspecifikation

 

Produktnamn

Kvalitet

Relativ molekylmassa

Molekylformel

Saltsyra

Elektroniska kemikalier G4

36.46

HCl

 

Inspektera föremål

Specifikationer

Inspektera föremål

Specifikationer

Utseende

Färglös transparent vattenlösning av väteklorid

Nickel (Ni), ppt

Mindre än eller lika med 100

Analys (HCl), %

36.0~38.0

Cupric (Cu), ppt

Mindre än eller lika med 100

Kromaticitet, Hazen-enheter

Mindre än eller lika med 10

Zink (Zn), ppt

Mindre än eller lika med 100

Brinnande återstod (sulfatbas), ppm

Mindre än eller lika med 3

Gallium (Ga), ppt

Mindre än eller lika med 100

fritt tillgängligt klor (Cl), ppb

Mindre än eller lika med 100

Germanium (Ge), ppt

Mindre än eller lika med 100

Ammonium (NH4), ppb

Mindre än eller lika med 100

Arsenik (As), ppt

Mindre än eller lika med 100

Sulfat (SO4), ppb

Mindre än eller lika med 100

Stantium (Sr), ppt

Mindre än eller lika med 100

Sulfiter (SO2), ppb

Mindre än eller lika med 100

Zirkonium (Zr), ppt

Mindre än eller lika med 100

Fosfat (PO4), ppb

Mindre än eller lika med 100

Niob (Nb), ppt

Mindre än eller lika med 100

Litium (Li), ppt

Mindre än eller lika med 100

Molybden (Mo), ppt

Mindre än eller lika med 100

Berylium (Be), ppt

Mindre än eller lika med 100

Silver (Ag), ppt

Mindre än eller lika med 100

Bor (B), ppt

Mindre än eller lika med 100

Kadmium (Cd), ppt

Mindre än eller lika med 100

Natrium (Na), ppt

Mindre än eller lika med 100

Tenn (Sn), ppt

Mindre än eller lika med 100

Magnesium (Mg), ppt

Mindre än eller lika med 100

Barium (Ba), ppt

Mindre än eller lika med 100

Aluminium (Al), ppt

Mindre än eller lika med 100

Tantal (Ta), ppt

Mindre än eller lika med 100

Kalium (K), ppt

Mindre än eller lika med 100

Guld (Au), ppt

Mindre än eller lika med 100

Kalcium (Ca), ppt

Mindre än eller lika med 100

Tallium (Tl), ppt

Mindre än eller lika med 100

Titan (Ti), ppt

Mindre än eller lika med 100

Bly (Pb), ppt

Mindre än eller lika med 100

Vanadin (V), ppt

Mindre än eller lika med 100

Vismut (Bi), ppt

Mindre än eller lika med 100

Krom (Cr), ppt

Mindre än eller lika med 100

Partiklar (Större än eller lika med 0,2μm), st/mL

Mindre än eller lika med 300

Mangan (Mn), ppt

Mindre än eller lika med 100

Partiklar (Större än eller lika med 0,3μm), st/mL

Mindre än eller lika med 100

Järn (Fe), ppt

Mindre än eller lika med 100

Partiklar (Större än eller lika med 0,5μm), st/mL

Mindre än eller lika med 5

Kobolt (Co), ppt

Mindre än eller lika med 100

Slut på rapporten

-

 

Populära Taggar: elektroniska kemikalier g4 saltsyra, Kina elektroniska kemikalier g4 saltsyra tillverkare, leverantörer, fabrik

Skicka förfrågan