Produktidentifiering
|
Punkt |
Specifikation |
|
Produktnamn |
G4 Salpetersyra |
|
Produktkategori |
Semiconductor Electronic Wet Chemical |
|
Kemiskt namn |
Salpetersyra |
|
Kemisk formel |
HNO3 |
|
CAS-nr. |
7697-37-2 |
|
Molekylvikt |
63.01 |
|
UN-nummer |
2031 |
|
Kvalitet |
SEMI G4 Ultra-High Purity Electronic Grade |
Produktöversikt
G4 Salpetersyra är en hög-ren stark oxiderande oorganisk syra speciellt utvecklad för tillverkning av halvledarwafer och avancerade mikroelektronikprocesser. Tillverkad via fler-destillation, ultra-finrening och klass 1000 ren-rumsfyllningsprocesser, kontrollerar denna produkt strikt spårmetalljoner, anjoniska föroreningar och luftburna partiklar, och uppfyller fullständigt SEMI G4 internationella halvledarstandarder.
Den fungerar som en kritisk våtkemikalie för rengöring av halvledarfront- och metalletsning. Med starka oxiderande och rengörande egenskaper tar den effektivt bort metalliska föroreningar, organiska rester och ytmikro-defekter på kiselskivor. Ultra-lågt innehåll av föroreningar eliminerar risker för processkontamination, stabiliserar waferns ytkvalitet och förbättrar produktionsutbytet för avancerad spåntillverkning.
Utseende:Färglös eller svagt blekgul genomskinlig flyktig vätska
Tekniska specifikationer (SEMI G4 Standard)
|
Testobjekt |
Specifikation |
|
HNO3-analys |
69,0 ~ 71,0 viktprocent |
|
Utseende |
Färglös eller blekgul klar transparent vätska |
|
Färg (APHA) |
Mindre än eller lika med 10 |
|
Densitet @ 20 grader |
1,40 ~ 1,42 g/cm³ |
|
Avdunstningsrester |
Mindre än eller lika med 50 ppb |
|
Individuella spårmetaller (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Mindre än eller lika med 10 ppb vardera |
|
Sulfat (SO₄²⁻) |
Mindre än eller lika med 50 ppb |
|
Klorid (Cl⁻) |
Mindre än eller lika med 30 ppb |
|
Fosfat (PO₄³⁻) |
Mindre än eller lika med 30 ppb |
|
Partiklar Större än eller lika med 0,2μm |
Mindre än eller lika med 100 st/ml |
Notera:All testdata baseras på batch-specifik COA (Certificate of Analysis).
Applikationer (Semiconductor Wet Process)
Rengöring av wafer Heavy Metal:Ta effektivt bort tungmetallföroreningar som järn, koppar, zink och kvarvarande oorganiska föroreningar på kiselwaferytor. Dess starka oxiderande egenskap säkerställer noggrann rengöring utan att införa sekundär kontaminering, vilket uppfyller ultra-höga renhetskrav för avancerade waferprocesser.
Metall tunnfilmsetsning:Används för finetsning och borttagning av olika tunna metallfilmer vid halvledartillverkning, med stabil etsningshastighet och utmärkt enhetlighet, lämplig för precisionsmönsterbearbetning av mikroelektroniska enheter.
Sammansatt våtrengöringslösning:Används för att förbereda blandade sura rengöringslösningar för halvledar-RCA standardrengöringsprocesser, i samarbete med andra elektroniska kemikalier för att ta bort organiska rester, partiklar och joniska föroreningar heltäckande.
MEMS och avancerad förpackningsbehandling:Lämplig för ytrengöring, föroreningsborttagning och mikro-etsning av MEMS-enheter, halvledarsensorer och chipförpackningskomponenter, anpassad till hög-precisionsstandard för mikroelektronisk tillverkning.
Standard för förpackning och fyllning
Förpackningstyp:Ren-korrosionsbeständig-HDPE-förseglad trumma, dedikerad salpetersyra-kemisk förpackning
Gemensam specifikation:25 kg / 30 kg liten trumma, 1000 kg korrosionsbeständig - IBC-väska
Fyllningsmiljö:Klass 1000 renrum, slutet ultra-rent fyllningssystem, eliminerar strikt sekundär partikel- och förorening
Tätningsstandard:Anti-oxidation, anti-flyktig och läckage-förseglad struktur, förhindrar produktförsämring och extern förorening
Förvaring & hållbarhet
● Förvara i svalt, torrt, ventilerat och dedikerat lager för frätande kemikalier, förvara tätt försluten, borta från direkt solljus, höga temperaturer och värmekällor för att undvika termisk nedbrytning.
● Isolera strikt från brännbara ämnen, reduktionsmedel, alkaliska kemikalier och organiska material för att förhindra våldsamma oxidationsreaktioner och säkerhetsrisker.
● Undvik långvarig-ljusexponering för att förhindra missfärgning och försämrad renhet orsakad av fotolys.
● Hållbarhet:12 månader under standardförseglade och mörka förvaringsförhållanden
Hantering och säkerhetsåtgärder
● Salpetersyra är starkt frätande och oxiderande med flyktighet. Operatörer måste bära kompletta professionella personliga skyddsutrustningar: syrabeständiga-handskar, helt slutna kemikalieglasögon, korrosionsbeständigt-förkläde och skyddande arbetskläder.
● All hantering, utspädning och dosering måste utföras i ett certifierat dragskåp; undvik inandning av flyktig giftig gas och direktkontakt med hud, ögon och slemhinnor.
● Tillsätt sakta salpetersyra i avjoniserat vatten under utspädningen; Häll aldrig vatten i koncentrerad salpetersyra för att förhindra vätskestänk och kemiska brännskador.
● I händelse av oavsiktlig kontakt, spill eller läckage, implementera nödavfall omedelbart i enlighet med standarddriftsprocedurer och SDS-riktlinjer.
● Se det officiella SDS-dokumentet för fullständig faroklassificering, transportbestämmelser och detaljerade första hjälpen-åtgärder.
Kvalitetssäkring
Varje sats av G4 salpetersyra produceras, renas och inspekteras i strikt enlighet med SEMI G4 internationella halvledarspecifikationer. Varje försändelse åtföljs av en batch-specifik officiell COA. Hela produktions- och fyllningsprocessen antar strikt rena-rumskontaminationskontroll och oxidations-beständig hantering, vilket säkerställer ultra-hög renhet, låg förorening och stabil satskonsistens, vilket helt uppfyller de rigorösa kraven för avancerade halvledarprocesser för våttillverkning.
Populära Taggar: elektroniska kemikalier g4 salpetersyra (våt halvledarkemikalie), Kina elektroniska kemikalier g4 salpetersyra (våtkemikalie för halvledare) tillverkare, leverantörer, fabrik

