Electronic Chemicals G4 Salpetersyra (Semiconductor Wet Chemical)

Electronic Chemicals G4 Salpetersyra (Semiconductor Wet Chemical)

Dokumentrevision: 01
Utgivningsdatum: 2026-09-02
Tillämplig standard: SEMI G4 Grade (Semiconductor Ultra-High Purity Wet Chemical)

Produktidentifiering

 

Punkt

Specifikation

Produktnamn

G4 Salpetersyra

Produktkategori

Semiconductor Electronic Wet Chemical

Kemiskt namn

Salpetersyra

Kemisk formel

HNO3

CAS-nr.

7697-37-2

Molekylvikt

63.01

UN-nummer

2031

Kvalitet

SEMI G4 Ultra-High Purity Electronic Grade

 

Produktöversikt

 

G4 Salpetersyra är en hög-ren stark oxiderande oorganisk syra speciellt utvecklad för tillverkning av halvledarwafer och avancerade mikroelektronikprocesser. Tillverkad via fler-destillation, ultra-finrening och klass 1000 ren-rumsfyllningsprocesser, kontrollerar denna produkt strikt spårmetalljoner, anjoniska föroreningar och luftburna partiklar, och uppfyller fullständigt SEMI G4 internationella halvledarstandarder.

 

Den fungerar som en kritisk våtkemikalie för rengöring av halvledarfront- och metalletsning. Med starka oxiderande och rengörande egenskaper tar den effektivt bort metalliska föroreningar, organiska rester och ytmikro-defekter på kiselskivor. Ultra-lågt innehåll av föroreningar eliminerar risker för processkontamination, stabiliserar waferns ytkvalitet och förbättrar produktionsutbytet för avancerad spåntillverkning.

 

Utseende:Färglös eller svagt blekgul genomskinlig flyktig vätska

 

Tekniska specifikationer (SEMI G4 Standard)

 

Testobjekt

Specifikation

HNO3-analys

69,0 ~ 71,0 viktprocent

Utseende

Färglös eller blekgul klar transparent vätska

Färg (APHA)

Mindre än eller lika med 10

Densitet @ 20 grader

1,40 ~ 1,42 g/cm³

Avdunstningsrester

Mindre än eller lika med 50 ppb

Individuella spårmetaller (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Mindre än eller lika med 10 ppb vardera

Sulfat (SO₄²⁻)

Mindre än eller lika med 50 ppb

Klorid (Cl⁻)

Mindre än eller lika med 30 ppb

Fosfat (PO₄³⁻)

Mindre än eller lika med 30 ppb

Partiklar Större än eller lika med 0,2μm

Mindre än eller lika med 100 st/ml

 

Notera:All testdata baseras på batch-specifik COA (Certificate of Analysis).

 

Applikationer (Semiconductor Wet Process)

 

Rengöring av wafer Heavy Metal:Ta effektivt bort tungmetallföroreningar som järn, koppar, zink och kvarvarande oorganiska föroreningar på kiselwaferytor. Dess starka oxiderande egenskap säkerställer noggrann rengöring utan att införa sekundär kontaminering, vilket uppfyller ultra-höga renhetskrav för avancerade waferprocesser.

 

Metall tunnfilmsetsning:Används för finetsning och borttagning av olika tunna metallfilmer vid halvledartillverkning, med stabil etsningshastighet och utmärkt enhetlighet, lämplig för precisionsmönsterbearbetning av mikroelektroniska enheter.

 

Sammansatt våtrengöringslösning:Används för att förbereda blandade sura rengöringslösningar för halvledar-RCA standardrengöringsprocesser, i samarbete med andra elektroniska kemikalier för att ta bort organiska rester, partiklar och joniska föroreningar heltäckande.

 

MEMS och avancerad förpackningsbehandling:Lämplig för ytrengöring, föroreningsborttagning och mikro-etsning av MEMS-enheter, halvledarsensorer och chipförpackningskomponenter, anpassad till hög-precisionsstandard för mikroelektronisk tillverkning.

 

Standard för förpackning och fyllning

 

Förpackningstyp:Ren-korrosionsbeständig-HDPE-förseglad trumma, dedikerad salpetersyra-kemisk förpackning

Gemensam specifikation:25 kg / 30 kg liten trumma, 1000 kg korrosionsbeständig - IBC-väska

Fyllningsmiljö:Klass 1000 renrum, slutet ultra-rent fyllningssystem, eliminerar strikt sekundär partikel- och förorening

Tätningsstandard:Anti-oxidation, anti-flyktig och läckage-förseglad struktur, förhindrar produktförsämring och extern förorening

 

Förvaring & hållbarhet

 

● Förvara i svalt, torrt, ventilerat och dedikerat lager för frätande kemikalier, förvara tätt försluten, borta från direkt solljus, höga temperaturer och värmekällor för att undvika termisk nedbrytning.

● Isolera strikt från brännbara ämnen, reduktionsmedel, alkaliska kemikalier och organiska material för att förhindra våldsamma oxidationsreaktioner och säkerhetsrisker.

● Undvik långvarig-ljusexponering för att förhindra missfärgning och försämrad renhet orsakad av fotolys.

● Hållbarhet:12 månader under standardförseglade och mörka förvaringsförhållanden

 

Hantering och säkerhetsåtgärder

 

● Salpetersyra är starkt frätande och oxiderande med flyktighet. Operatörer måste bära kompletta professionella personliga skyddsutrustningar: syrabeständiga-handskar, helt slutna kemikalieglasögon, korrosionsbeständigt-förkläde och skyddande arbetskläder.

● All hantering, utspädning och dosering måste utföras i ett certifierat dragskåp; undvik inandning av flyktig giftig gas och direktkontakt med hud, ögon och slemhinnor.

● Tillsätt sakta salpetersyra i avjoniserat vatten under utspädningen; Häll aldrig vatten i koncentrerad salpetersyra för att förhindra vätskestänk och kemiska brännskador.

● I händelse av oavsiktlig kontakt, spill eller läckage, implementera nödavfall omedelbart i enlighet med standarddriftsprocedurer och SDS-riktlinjer.

● Se det officiella SDS-dokumentet för fullständig faroklassificering, transportbestämmelser och detaljerade första hjälpen-åtgärder.

 

Kvalitetssäkring

 

Varje sats av G4 salpetersyra produceras, renas och inspekteras i strikt enlighet med SEMI G4 internationella halvledarspecifikationer. Varje försändelse åtföljs av en batch-specifik officiell COA. Hela produktions- och fyllningsprocessen antar strikt rena-rumskontaminationskontroll och oxidations-beständig hantering, vilket säkerställer ultra-hög renhet, låg förorening och stabil satskonsistens, vilket helt uppfyller de rigorösa kraven för avancerade halvledarprocesser för våttillverkning.

 

Populära Taggar: elektroniska kemikalier g4 salpetersyra (våt halvledarkemikalie), Kina elektroniska kemikalier g4 salpetersyra (våtkemikalie för halvledare) tillverkare, leverantörer, fabrik

Skicka förfrågan